Quanta 450 鎢燈絲掃描電鏡
制造廠商：美國FEI公司
設備用途：掃描電鏡主要用于各種材料的組織形貌觀察，材料斷口分析和失效分析；配備能譜儀可進行材料實時微區的成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量；配備背散射電子衍射儀（EBSD）可進行晶格取向分析；配備非金屬夾雜物分析軟件可進行夾雜物定性定量分析。
設備特點：對于失效分析、質量控制和材料表征而言，Quanta 450鎢燈絲掃描電鏡具有經濟、高效的高分辨成像和分析應用的解決方案，應對不導電樣品，Quanta 450提供了低真空模式下的高性能、消除了對專用的樣品制備步驟；另外Quanta 450加上了換掃模式，擴展了SEM的成像和分析功能。
技術參數：
1.分辨率：（1） 二次電子（SE）成像：
高真空模式：30KV時≦3.0nm；3KV≦8.0 nm
低真空模式：30KV時≦3.0nm；3KV≦10.0 nm
環境真空模式：30KV時≦3.0nm
（2） 背散射電子（BSE）成像
高、低真空模式：30KV時≦4.0nm
2.放大倍數：高真空模式下，13x-1000000x
放大倍數誤差：≦3%
3.牛津能譜儀（EDS）：能量分辨率：MnKa保證由于127eV，
元素分析范圍：Be4~Cf98。
